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光刻机是掩模对准曝光机是制慥芯片的核心装备,目前我国光刻机的加工精度是90nm虽然已经非常精准,但是和发到国家相比还是有缺陷!

光刻机是制造芯片的必要机器。目前我国光刻机加工的精度是十七纳米这在国际行列中并不先进。

光刻机是用于生产BGM芯片的机器目前全世界也只有少数几家公司鈳以生产光刻机,我国光刻机的加工精度为90纳米而世界上最好的光刻机精度已经是5纳米了,差距巨大

光刻机就是用来做手机芯片的。目前国内光刻机的加工精度最高可以到5纳米这已经是世界一流水准了。

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